简要回答
光刻机又被称之为掩模对准曝光机曝光系统，光刻系统等等。它是由制造芯片的核心装置之一，光刻机采用类似照片，冲印的技术，把眼模板上的精细图形，通过光线的曝光印制到硅片上。目前光刻机又分为接触式曝光，接近式曝光和投影式曝光。
光刻机的工作原理
通常光刻机是通过一系列的光源，能量，形状，控制手段，将光束透射过，画着线路图的眼膜，经物镜补偿各种光学误差，将线路图成比例缩小以后映射到硅片上，然后再使用化学方式显影得到刻在硅片上的电路图。
使用光刻工艺的注意事项
一般在使用光刻工艺时要经历硅片，表面清洗，烘干，涂底，旋涂，光刻胶对准曝光显影激光刻轴等等工艺。另外光刻机的制造和维护需要使用到高度的光学以及电子基础，所以光刻机在世界上只有很少一部分商家能够掌握相关的细节。
光刻机的用途
光刻机其实可以用于生产芯片，也可以用于封装，当然光刻机可以运用在LED制造领域。一般使用光刻机的时候，用于生产芯片的光刻机是中国在半导体设备制造上的短板。
